VIDA DIGITAL | Noticias | 23 FEB 2015

Intel abandera la siguiente evolución en la fabricación de chips, hasta los 10nm y más allá

Tags: Chip
La evolución en la fabricación de microprocesadores, chips gráficos y el resto de componentes de silicio, no para. Los 14nm alcanzados por Intel hace tan solo unos meses se pueden reducir de nuevo, esta vez hasta los 10nm, pero con visos de seguir reduciendo su tamaño.
intel broadwell 14 nm

Intel presentará varios documentos esta semana en la Conferencia International Solid-State Circuits de San Francisco, una de los encuentros académicos clave en el diseño de chips. Allí uno de sus expertos explicará los retos que conllevará la transición de un proceso de fabricación de 14 nm a 10 nm, e incluso más.
De hecho, los expertos de Intel creen que se puede superar la tecnología de 10nm (prevista para 2016) para llegar hasta los 7nm (en 2018).
Este año se cumple el 50 aniversario de la Ley de Moore, enunciada por uno de los fundadores de Intel, Gordon Moore y que aseguraba que la densidad de transistores de un chip se duplica cada dieciocho meses. Esto supone, trasladado al mundo real, que los chips de silicio empleados en PC, teléfonos, servidores y millones de dispositivos corren más, realizan funciones más rápido y consumen menos energía, de una generación a otra.
El proceso de fabricación de chips de silicio es complejo y en él interviene la luz necesaria para su estampación y, en especial, su longitud de onda. Avanzar en este sistema también es un reto fundamental para toda la industria. De momento, serán posibles procesos de fabricación a 10nm y 7nm, lo que supone que la industria de chips puede subsistir unos años más sin cambios radicales en la tecnología de fabricación.
 

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